摘要：為了實(shí)現(xiàn)NA1.35投影光刻光學(xué)系統(tǒng)高質(zhì)量成像,在設(shè)計(jì)過程中除了控制波像差,還需進(jìn)一步優(yōu)化光學(xué)系統(tǒng)的偏振像差。利用Jones光瞳和物理光瞳表達(dá)了NA1.35投影光刻光學(xué)系統(tǒng)的偏振像差,并用二向衰減量與延遲量分析了光學(xué)系統(tǒng)偏振像差的大小;根據(jù)光線入射到不同光學(xué)面上最大入射角度的不同,為每個(gè)光學(xué)面設(shè)計(jì)相應(yīng)的膜系以優(yōu)化光學(xué)系統(tǒng)的偏振像差。相比于采用常規(guī)膜系,膜系優(yōu)化后NA1.35投影光刻光學(xué)系統(tǒng)的二向衰減量和延遲量分別減小到了0.021 8、0.057 2 rad,即減小了光學(xué)系統(tǒng)的偏振像差。利用Prolith光刻仿真軟件,分別對采用常規(guī)膜系和優(yōu)化膜系的NA1.35投影光刻光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行曝光性能仿真,結(jié)果顯示:膜系優(yōu)化后光學(xué)系統(tǒng)的成像對比度提高了4.4%,證明了NA1.35投影光刻光學(xué)系統(tǒng)偏振像差優(yōu)化方法的有效性。