摘要：根據(jù)手工拋光多方向性的特點(diǎn),提出一種三維類擺線拋光軌跡。為解決三維類擺線相交處拋光材料去除較多的問題,依據(jù)材料去除深度模型和軌跡相交的特點(diǎn),確定擺線參數(shù)的控制范圍,在參數(shù)控制范圍內(nèi)進(jìn)行基于均勻材料去除的區(qū)域進(jìn)給速度優(yōu)化,把去除深度相近的軌跡點(diǎn)視為一個區(qū)域,分區(qū)域控制拋光的進(jìn)給速度,最終實(shí)現(xiàn)各區(qū)域內(nèi)的材料去除深度基本相同。仿真和機(jī)器人拋光實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,分區(qū)域規(guī)劃進(jìn)給速度減少了軌跡相交處的材料去除,使得工件表面的去除深度總體上趨于一致,解決了因軌跡重疊導(dǎo)致的表面材料去除不均勻問題,提高了拋光件表面質(zhì)量。