摘要：針對(duì)微型磁瓦圖像對(duì)比度低、紋理背景復(fù)雜、亮度不均勻、缺陷區(qū)域小等特點(diǎn),本文提出了一種微型磁瓦表面線缺陷視覺檢測(cè)方法。首先,構(gòu)造自適應(yīng)靜態(tài)掩膜,屏蔽微型磁瓦輪廓;其次,采用非線性各向異性擴(kuò)散方程,抑制微型磁瓦表面紋理;進(jìn)而,構(gòu)造動(dòng)態(tài)掩膜自下而上掃描磁瓦圖像,提取線缺陷區(qū)域;最后,在開發(fā)的微型磁瓦視覺檢測(cè)實(shí)驗(yàn)裝置上,進(jìn)行了大量的實(shí)驗(yàn)研究。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,本文缺陷提取算法能夠較準(zhǔn)確提取出磁瓦表面圖像的線缺陷,表面缺陷檢測(cè)的準(zhǔn)確率為94.6%。